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共聚焦晶圓溝槽輪廓尺寸測量顯微鏡

簡(jiǎn)要描述:中圖儀器VT6000共聚焦晶圓溝槽輪廓尺寸測量顯微鏡基于光學(xué)共軛共焦原理,結合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等對器件表面進(jìn)行非接觸式掃描并建立表面3D圖像,實(shí)現器件表面形貌3D測量。

  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2025-03-09
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:693

詳細介紹

品牌中圖儀器產(chǎn)地國產(chǎn)
加工定制

中圖儀器VT6000共聚焦晶圓溝槽輪廓尺寸測量顯微鏡基于光學(xué)共軛共焦原理,結合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等對器件表面進(jìn)行非接觸式掃描并建立表面3D圖像,實(shí)現器件表面形貌3D測量。

共聚焦晶圓溝槽輪廓尺寸測量顯微鏡

在材料生產(chǎn)檢測領(lǐng)域中,共聚焦顯微鏡廣泛應用于半導體制造及封裝工藝檢測、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學(xué)加工、微納材料制造、汽車(chē)零部件、MEMS器件等超精密加工行業(yè)及航空航天、科研院所等領(lǐng)域中。


產(chǎn)品功能

(1)設備具備表征微觀(guān)形貌的輪廓尺寸及粗糙度測量功能;

(2)設備具備自動(dòng)拼接功能,能夠快速實(shí)現大區域的拼接縫合測量;

(3)設備具備一體化操作的測量與分析軟件,預先設置好配置參數再進(jìn)行測量,軟件自動(dòng)統計測量數據并提供數據報表導出功能,即可快速實(shí)現批量測量功能;

(4)設備具備調整位置、糾正、濾波、提取四大模塊的數據處理功能;

(5)設備具備粗糙度分析、幾何輪廓分析、結構分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能;

(6)設備具備一鍵分析和多文件分析等輔助分析功能,可實(shí)現批量數據文件的快速分析功能;


應用領(lǐng)域

對各種產(chǎn)品、部件和材料表面的面形輪廓、表面缺陷、磨損情況、腐蝕情況、平面度、粗糙度、波紋度、孔隙間隙、臺階高度、彎曲變形情況、加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測量和分析。

應用范例:

共聚焦晶圓溝槽輪廓尺寸測量顯微鏡


晶圓切割槽應用案例

VT6000共聚焦晶圓溝槽輪廓尺寸測量顯微鏡在半導體制造及封裝工藝中,能夠對具有復雜形狀和陡峭的激光切割槽的表面特征進(jìn)行非接觸式掃描并重建三維形貌。

在對晶圓進(jìn)行激光切割的過(guò)程中,需要進(jìn)行精準定位,以此來(lái)保證能在晶圓上沿著(zhù)正確的輪廓開(kāi)出溝槽,通常由切割槽的深度和寬度來(lái)衡量晶圓分割的質(zhì)量。VT6000系列共聚焦顯微鏡,其以共聚焦技術(shù)為原理,配合高速掃描模塊,專(zhuān)業(yè)的分析軟件具有多區域、自動(dòng)測量功能,能夠快速重建出被測晶圓激光鐳射槽的三維輪廓并進(jìn)行多剖面分析,獲取截面的槽道深度與寬度信息。VT6000系列共聚焦顯微鏡能夠對激光溝槽的輪廓進(jìn)行精準測量!


性能特色

1、高精度、高重復性

1)以轉盤(pán)共聚焦光學(xué)系統為基礎,結合高穩定性結構設計和3D重建算法,共同組成測量系統,保證儀器的高測量精度;

2)隔震設計能夠消減底面振動(dòng)噪聲,儀器在嘈雜的環(huán)境中穩定可靠,具有良好的測量重復性。

2、一體化操作的測量分析軟件

1)測量與分析同界面操作,無(wú)須切換,測量數據自動(dòng)統計,實(shí)現了快速批量測量的功能;

2)可視化窗口,便于用戶(hù)實(shí)時(shí)觀(guān)察掃描過(guò)程;

3)結合自定義分析模板的自動(dòng)化測量功能,可自動(dòng)完成多區域的測量與分析過(guò)程;

4)幾何分析、粗糙度分析、結構分析、頻率分析、功能分析五大功能模塊齊全;

5)一鍵分析、多文件分析,自由組合分析項保存為分析模板,批量樣品一鍵分析,并提供數據分析與統計圖表功能;

6)可測依據ISO/ASME/EUR/GBT等標準的多達300余種2D、3D參數。

3、精密操縱手柄

集成X、Y、Z三個(gè)方向位移調整功能的操縱手柄,可快速完成載物臺平移、Z向聚焦等測量前工作。

4、雙重防撞保護措施

除軟件ZSTOP設置Z向位移下限位進(jìn)行防撞保護外,另在Z軸上設計有機械電子傳感器,當鏡頭觸碰到樣品表面時(shí),儀器自動(dòng)進(jìn)入緊急停止狀態(tài),保護儀器,降低人為操作風(fēng)險。


部分技術(shù)指標

型號VT6100


行程范圍

X100mm
Y100mm
Z100mm
外形尺寸
520*380*600mm
儀器重量50kg
測量原理共聚焦光學(xué)系統
顯微物鏡10×;20×;50×;100×
視場(chǎng)范圍120×120 μm~1.2×1.2 mm


高度測量

重復性(1σ)12nm
顯示分辨率0.5nm


寬度測量

性(1σ)40nm
顯示分辨率1nm
XY位移平臺負載10kg
控制方式電動(dòng)
Z0軸掃描范圍10mm
物鏡塔臺5孔電動(dòng)
光源白光LED


懇請注意:因市場(chǎng)發(fā)展和產(chǎn)品開(kāi)發(fā)的需要,本產(chǎn)品資料中有關(guān)內容可能會(huì )根據實(shí)際情況隨時(shí)更新或修改,恕不另行通知,不便之處敬請諒解。

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