中圖儀器NS200國產(chǎn)臺階形貌儀是一種接觸式表面形貌測量?jì)x器，可以對微米和納米結構進(jìn)行膜厚和薄膜高度、表面形貌、表面波紋和表面粗糙度等的測量。

測量時(shí)通過(guò)使用2μm半徑的金剛石針尖在超精密位移臺移動(dòng)樣品時(shí)掃描其表面，測針的垂直位移距離被轉換為與特征尺寸相匹配的電信號并最終轉換為數字點(diǎn)云信號，數據點(diǎn)云信號在分析軟件中呈現并使用不同的分析工具來(lái)獲取相應的臺階高或粗糙度等有關(guān)表面質(zhì)量的數據。

產(chǎn)品功能

1.參數測量功能

1）臺階高度：能夠測量納米到330μm甚至1000μm的臺階高度，可以準確測量蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料；

2）粗糙度與波紋度：能夠測量樣品的粗糙度和波紋度，分析軟件通過(guò)計算掃描出的微觀(guān)輪廓曲線(xiàn)，可獲取粗糙度與波紋度相關(guān)的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余項參數；

3）翹曲與形狀：能夠測量樣品表面的2D形狀或翹曲，如在半導體晶圓制造過(guò)程中，因多層沉積層結構中層間不匹配所產(chǎn)生的翹曲或形狀變化，或者類(lèi)似透鏡在內的結構高度和曲率半徑。

2.數采與分析系統

1）自定義測量模式：支持用戶(hù)以自定義輸入坐標位置或相對位移量的方式來(lái)設定掃描路徑的測量模式；

2）導航圖智能測量模式：支持用戶(hù)結合導航圖、標定數據、即時(shí)圖像以智能化生成移動(dòng)命令方式來(lái)實(shí)現掃描的測量模式。

3）SPC統計分析：支持對不同種類(lèi)被測件進(jìn)行多種指標參數的分析，針對批量樣品的測量數據提供SPC圖表以統計數據的變化趨勢。

3.光學(xué)導航功能

配備了500W像素的彩色相機，可實(shí)時(shí)將探針掃描軌跡的形貌圖像傳輸到軟件中顯示，進(jìn)行即時(shí)的高精度定位測量。

4.樣品空間姿態(tài)調節功能

配備了精密XY位移臺、360°電動(dòng)旋轉平臺和電動(dòng)升降Z軸，可對樣品的XYZ、角度等空間姿態(tài)進(jìn)行調節，提高測量精度及效率。

NS200國產(chǎn)臺階形貌儀是一款超精密接觸式微觀(guān)輪廓測量?jì)x，其采用LVDC電容傳感器，具有的亞埃級分辨率和超微測力等特點(diǎn)使得其在ITO導電薄膜厚度的測量上具有很強的優(yōu)勢。針對測量ITO導電薄膜的應用場(chǎng)景，NS200臺階儀提供如下便捷功能：

1）結合了360°旋轉臺的全電動(dòng)載物臺，能夠快速定位到測量標志位；

2）對于批量樣件，提供自定義多區域測量功能，實(shí)現一鍵多點(diǎn)位測量；

3）提供SPC統計分析功能，直觀(guān)分析測量數值變化趨勢；

性能特點(diǎn)

1.亞埃級位移傳感器

具有亞埃級分辨率，結合單拱龍門(mén)式設計降低環(huán)境噪聲干擾，確保儀器具有良好的測量精度及重復性；

2.超微力恒力傳感器

1-50mg可調，以適應硬質(zhì)或軟質(zhì)樣品表面，采用超低慣量設計和微小電磁力控制，實(shí)現無(wú)接觸損傷的接觸式測量；

3.超平掃描平臺

系統配有超高直線(xiàn)度導軌，杜絕運動(dòng)中的細微抖動(dòng)，真實(shí)地還原掃描軌跡的輪廓起伏和樣件微觀(guān)形貌。

典型應用

部分技術(shù)指標

使用環(huán)境

相對濕度：濕度 （無(wú)凝結）30-40% RH

溫度：16-25℃ (每小時(shí)溫度變化小于2℃)

地面振動(dòng)：6.35μm/s（1-100Hz）

音頻噪音：≤80dB

空氣層流：≤0.508 m/s（向下流動(dòng)）

如有疑問(wèn)或需要更多詳細信息，請隨時(shí)聯(lián)系中圖儀器咨詢(xún)。